等离子体处理ITO表面,提升与OLED的贴合性能

等离子体处理ITO表面,提升与OLED的贴合性能

经研究后发现ITO经氧等离子体的处理可大大提高空穴的注人和器件的稳定性。利用不同功率的等离子体对ITO进行处理，使得ITO功函数大幅提升，优化了器件的性能。有机电致发光器件(OLED) ，因其自发光，亮度高，可视角度大等诸多优势，在显示和照明领域备受青睐，具有极大的应用前景。

由于氧化铟锡(ITO)导电薄膜具有良好的导电性，以及在可见光范围内具有较高的透光率，使之广泛应用于光电领域，在有机电致发光领域也常常作为OLED的阳极材料。

在OLED中，由于ITO可直接与有机薄膜接触，所以使得TTO的表面特性如表面有机污染物含量、面电阻、表面粗糙度和功函数等对整个器件性能起着重要作用，改变ITO的表面特性便可影响OLED的性能。

目前处理ITO的方法主要分为物理方法和化学方法两种。主要是等离子处理和抛光处理，化学方法主要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面增加有机和无机化合物。

等离子体处理被认为是最有效的处理方式。ITO的表面功函数与器件中的空穴传输层NPB的最高电子占有轨道(HOMO)之间存在较高的势垒，导致器件的性能低。

TTO表面的氧含量将直接影响ITO的功函数，氧含量增加将导致ITO费米能级的降低，功函数的升高。ITO经混合等离子体处理后，表面形貌会发生显著改变。

没有进行处理的ITO表面形貌与等离子体处理后的ITO表面形貌分析发现，ITO表面的平均粗糙度和峰谷距离均有明显降低，其表面颗粒半径也降低不少。平均粗糙度和表面颗粒半径的减小使得ITO与有机层的接触面增大，有利于氧原子附着。

等离子清洗机处理能更好地改善ITO表面形貌，同时可以看到ITO表面氧空洞明显增多，表面富集了一层带负电的氧，形成界面偶极层，增加了ITO表面功函数，使得ITO的空穴注人能力大大增强。

此外，等离子清洗机处理以后ITO表面粗糙度减少，ITO膜与NPB之间的界面能减少，空穴注人变得容易，与由阴极注人的电子更好的复合产生激子，等离子体处理后的阳极制备的器件亮度高，质量好。

以上就是（等离子体处理ITO表面,提升与OLED的贴合性能）全部内容，收藏起来下次访问不迷路！